N+1工艺逼近7nm水准！中芯国际和台积电还有多大

5月19日短短半日，A股总市值近2万亿的芯片股市值飙升超420亿。盘面上，半导体封测、国家大基金等指数涨势惊人，迅速收回此前“失地”。尽管外部环境变化增加不确定性，但国产替代趋势不可阻挡，加上国家大力支持发展芯片自主，定调科技战略，未来科技板块仍是布局的重点方向。在港股，中国最大的晶圆代工企业中芯国际更是大涨近8%，总市值突破千亿港元，达到1027亿港元。

梁孟松用了仅仅300天的时间，就让中芯国际实现了从28nm到14nm的技术跨越，14nm芯片的良品率也从3%提高到 95%。可以说，梁孟松的加入带动了中芯国际制程工艺的跨越式发展。中芯国际实现28nm到14nm的跨越，也极大地振奋了国内自主芯片产业的信心。

国内最大、制程最先进的晶圆代工厂中芯国际在2019年年报里曾称，“2020年是中芯国际进入新阶段的开始”。中芯国际今年最重要的任务，是确保14nm芯片的产能顺利上量。中芯南方是中芯国际今年14nm芯片产能的主力军。除了独占20亿美元的资本支出外，中芯国际在5月5日还宣布，其发行人民币股份募资的40%都将投入到中芯南方运营的12英寸芯片SN1项目。

财报显示，14nm芯片在2019年四季度只贡献了1%的营收，中芯国际联席CEO梁孟松在今年2月举行的去年四季度财报会议上曾表示，14nm芯片真正营收和产能放量会是在 2020年底。他还给出了14nm芯片产能扩张时间表：今年3月14nm芯片的月产能达到4000片，7 月计划达到9000片，12月则计划达到1.5万片。

不过14nm工艺相比台积电、三星的工艺依然存在2-3代的差距，而且满足不了制造当前最高性能水平的处理器，所以中芯国际还在发展更新一代的N+1、N+2工艺。

为了在技术上寻求突破，中芯国际开展N+1、N+2工艺战略，直追台积电7nm制程工艺。中芯国际CEO梁孟松宣布中芯国际目前正在全力研发N+1工艺，已进入客户导入产品认证阶段，并且提到N+1工艺的芯片相较14nm性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%，SoC面积缩小55%。

N+1和7nm工艺非常相似，唯一区别在于，N+1工艺的性能只提升了20%，但市场基准性能提升是35%，“中芯国际的N+1工艺面向低功耗应用领域”。N+1之后还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于 性能及成本，N+2显然是面向高性能的，成本也会增加。

至于备受关注的EUV光刻机，梁孟松表示在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会使用EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。

据媒体3月7日报道，中芯国际集成电路制造（深圳）有限公司从从荷兰进口的一台大型光刻机顺利通过出口加工区场站两道闸口进入厂区。据悉，这台机器主要用于企业复工复产后的生产线扩容。内部人士认为，中芯国际生产线扩容后全年预计可为企业增加10%左右的营收。

众人关心的是，2018年5月，中芯国际曾向荷兰阿斯麦尔（ASML）订购了一台最新型的EUV光刻机，价值高达1.5亿美元。在全球光刻机生产厂商中，荷兰的ASML（阿斯麦）是唯一一家能够生产EUV光刻机的厂商。EUV光刻机原计划在2019年初交付。不过，由于美国方面阻扰，这项交易至今仍未完成。

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